Die TXRF-Analyse ist eine hochempfindliche Oberflächenanalyse, die unter anderem zur Spurenmetallanalyse auf Silizium-Proben eingesetzt wird. Sie wollen Ihre feste, flüssige oder gasförmige Probe untersuchen lassen? Vertrauen Sie auf die Expertise von SemiSol. Wir führen TXRF-Analysen kompetent, schnell und effizient durch.
Die TXRF ist eine empfindliche Methode für die quantitative und halbquantitative Elementanalyse von Flüssigkeiten, Feststoffen und Verunreinigungen. Bei SemiSol wird die direkte TXRF-Analytik hauptsächlich zur Detektion von Spurenelementen auf einer Siliziumwaferoberfläche genutzt. Die Analytik erfolgt nach vorgegebenen Koordinaten in einer vollständig automatisierten Anlage.
TXRF (Total X-Ray Fluorescence, auf deutsch Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse) verwendet einen einfallenden Röntgenstrahl, um Metallverunreinigungen auf der Waferoberfläche anzuregen, die Fluoreszenz abgeben. Das Fluoreszenzsignal wird dann gesammelt und analysiert. Der Winkel des einfallenden Röntgenstrahls ist sehr flach, so dass nur die nahe Oberfläche (ca. 400 A) des Wafers analysiert wird. Elemente können mit einer Nachweisgrenze von 1E9 Atomen/cm2 analysiert werden.
TXRF-Spektroskopie basiert auf der Methode der Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse. Eine luftgekühlte Röntgenröhre erzeugt einen Röntgenstrahl, der durch einen Multilayer- Monochromator auf den engen Energiebereich einer charackteristischen Linie (z.B. Mo-K) reduziert wird. Der fokussierte Strahl trifft in einem sehr flachen Winkel auf einen Probenträger so dass es zu Totalreflexion kommt. Die daraus resultierende Eindringtiefe von wenigen Nanometern erzeugt ein besseres Signal-Rausch-Verhältnis, da Wechselwirkungen mit dem Trägermaterial der Probe nicht stattfinden. So kann die Nachweisgrenze bis auf 0,01 Pikogramm erweitert werden.
Des Weiteren bilden sich durch Wechselwirkung der einfallenden mit den reflektierten Röntgenstrahlen stehende Wellenfelder (engl. x-ray standing waves, XSW) aus, die insbesondere zur Feststellung und Quantifizierung von Verunreinigungen auf der Probe (z. B. einem Wafer) verwendet werden können.
Diese Vorteile bietet eine Analyse mittels Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse:
Wir bei SemiSol gehen auf Sie als Kunde ein und bieten individuelle, anwendungsbezogene Lösungen für Ihre Messung und Analyse. Im Bereich der Oberflächenanalyse bieten wir zusätzlich zu VPD, TXRF und ICP-MS viele weitere Verfahren, die Ihre Messung unterstützen.
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