Bei SemiSol bieten wir Ihnen ein breites Spektrum an Methoden zur Analyse von Oberflächen, um verschiedene Untersuchungen zur Qualitätssicherung durchzuführen. Dazu zählen beispielsweise:
- Ermittlung und Identifizierung von Kontaminationen auf der Oberfläche
- Untersuchung der Oberflächenstruktur (Elementar- und strukturelle Analyse)
- Analytik der chemischen Eigenschaften
Jede Oberflächenanalyse führen wir nach neuesten wissenschaftlichen Standards sowie schnell und effizient durch, sodass aussagekräftige Ergebnisse der Analyse bereits kurze Zeit später vorliegen. Sie benötigen die Analyse sehr kurzfristig? Auch das ist möglich! Sprechen Sie uns gern an.
Gerne beraten wir Sie, um die geeigneten Oberflächenanalyse-Methoden für Ihre spezielle Fragestellung zu finden. Die erfahrenen Expertinnen und Experten in unserem spezialisierten Analytik-Labor führen jede Analyse fachkundig und effizient durch. Die ausführliche Auswertung in Form von detaillierten Berichten liefert Ihnen die notwendigen Erkenntnisse zur Oberflächenbeschaffenheit und möglicher Kontaminationen.
VPD (Gasphasenzersetzung)
Die Gasphasenzersetzung dient der Probenaufbereitung zur Konzentrierung von Verunreinigungen auf Silizium-Proben. Sie wird eingesetzt, um die Nachweisgrenzen der ICP MS-Analyse, der TXRF-Analyse und ähnlicher Verfahren zu erhöhen. Die Nachweisgrenzen für Metalle können mittels VPD um 2–3 Größenordnungen verbessert werden. So lassen sich mögliche metallische Kontaminationen auf der Oberfläche von Wafern mit hoher Auflösung bestimmen.
ICP-MS
Die ICP-MS (Massenspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma) wird zur Ultraspurenanalyse von Verunreinigungen auf Oberflächen von Halbleitern und Wafern eingesetzt. Bei ICP-MS handelt es sich um ein hochauflösendes Verfahren, das heutzutage als der Standard in der Oberflächenanalytik gilt. Es eignet sich hervorragend zur Elementspurenbestimmung an Metallen, Halbleitern, Keramiken und Reinstmetallen.
TXRF
Bei der TXRF (Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzanalyse) wird ein Röntgenstrahl in sehr flachem Winkel auf die Probe gerichtet. Dank der geringen Eindringtiefe sind die Wechselwirkungen mit dem Trägermaterial gering – die Nachweisgrenze für Elemente liegt bei 0,01 Piktogramm. Das zerstörungsfreie TXRF-Verfahren eignet sich sehr gut für die chemische Analyse und die Quantifizierung von Verunreinigungen auf Wafern und Halbleitern.
Weitere Analysen
EDX-Analyse
FTIR Spektroskopie
ICP-OES
Ionenchromatographie & Gaschromatographie
Photometrie
REM (Rasterelektronenmikroskopie)
SIMS (Sekundärionen-Massenspektrometrie)
TEM (Transmissionselektronenmikroskopie)
ToF SIMS
WDX
XRF (Röntgenfluoreszenzanalyse)
SemiSol ist Ihr zuverlässiger und erfahrener Partner für Oberflächenanalytik. Seit über 30 Jahren führen wir
regelmäßig Analysen für alle Arten von Unternehmen im Bereich Halbleiter-Entwicklung und Solar-Technik durch – vom regionalen mittelständischen Unternehmen bis zu internationalen Konzernen. Neben der
Oberflächenanalyse bieten wir zudem Bulkanalysen zur Elementbestimmung innerhalb des Probenkörpers an.
Durch unsere langjährige Erfahrung im Analytik-Bereich wissen wir, worauf es ankommt. Auch für schwierige Fragestellungen und komplexe Probleme finden wir eine Lösung, die aussagekräftige Ergebnisse
liefert und dabei im Zeit- und Kostenrahmen bleibt. Kontaktieren Sie uns für ein erstes Beratungsgespräch, um Möglichkeiten und Methoden für Ihre individuellen Wünsche zu erörtern. Wir freuen uns
darauf, Ihr langfristiger Partner im Bereich Oberflächenanalytik zu werden und Ihr Unternehmen mit unseren zielführenden Analytik-Lösungen voranzubringen.
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