ICP-OES Analyse: Die Optische Emissionsspektrometrie

Die Optische Emissionsspektrometerie mittels induktiv gekoppeltem Plasma (Inductively Coupled Plasma Optical Emission Spectroscopy), kurz „ICP-OES“ bzw. „Plasma ICP-OES“ bezeichnet ein Oberflächenanalyse-Verfahren.
 
Im Vergleich zum Standard-Verfahren der ICP-MS Analyse ist es einfacher in der Methodenentwicklung und dadurch in der Regel günstiger.
 
Das ICP-OES Verfahren dient der qualitativen und quantitativen Bestimmung von Elementen auf einer Proben-Oberfläche und wird weit verbreitet als Routineverfahren angewendet. Dabei können alle vorhandenen Elemente gleichzeitig erfasst und ihre Konzentration gemessen werden.

Präzise, schnell und kosteneffizient: Seit über 30 Jahren bietet SemiSol Ihnen anwendungsbezogene Lösungen für Ihre Messungen und Analysen. Für eine Vielzahl nationaler und internationaler Kunden führen wir fachkundig unterschiedliche Oberflächen- und Festkörperanalysen durch. Außerdem unterstützen wir Kunden aus den Bereichen Forschung und Entwicklung bei speziellen Analyseanfragen. Sprechen Sie uns an! Wir beraten Sie gern, welche Vorteile die ICP-OES Analyse für Ihre Anforderungen bietet oder finden das Verfahren, das für Ihre Fragestellungen am besten geeignet ist.

Vorteile der Optischen Emissionsspektrometrie (Plasma ICP-OES)

  • Etabliertes Verfahren zur Multi-Element-Analyse
  • Besonders geeignet für flüssige Proben sowie Materialien, die sich leicht in flüssige Form bringen lassen
  • Große Spektralbereiche können innerhalb kürzester Zeit gleichzeitig erfasst werden
  • Messung von etwa 70 Elementen bis zur Ordnungszahl 83 plus Thorium und Uran (allerdings ohne C, N, O, Tc, Pm, F, Cl sowie alle Edelgase)
  • Hohe Empfindlichkeit sowie geringe Matrixeffekte bei der Messung
  • Ermöglicht Analysen im ppm-Bereich
  • Schnelles Verfahren, das hochfrequente Kontrollen mit niedrigen Nachweisgrenzen erlaubt
  • Geringer Aufwand in der Probenvorbereitung
  • Kosteneffiziente Methode mit hoher Flexibilität

Nachweisgrenze bei der ICP-OES Analyse

Das ICP-OES Verfahren besitzt eine höhere Nachweisgrenze von mg/L bis µg/L. Dadurch eignet sich die optische Analyse mittels induktiv gekoppeltem Plasma besonders für Proben mit hohem Matrixgehalt, bei dem große Spektralbereiche gleichzeitig und in kurzer Zeit erfasst werden sollen. So lässt sich schnell und einfach eine quantitative Analyse der vorhandenen chemischen Elemente auf einer Probe durchführen.

Vergleich zur ICP-MS Analyse

Bei der ICP-OES Analyse werden durch die hohen Temperaturen im Plasma die Analyt-Atome und -Ionen angeregt. Dadurch emittieren Atome und Ionen jeweils photoelektrische Strahlung (Licht-Emission) in ihren charakteristischen Wellenlängen. Das Spektrometer trennt die emittierte Strahlung nach Wellenlänge auf und verstärkt diese. Mittels Halbleiterdetektor erfolgt die simultane Messung zur Bestimmung der vorhandenen Elemente auf der Probe, wobei die Intensität des emittierten Lichtes auf die Element-Menge hinweist. Die ICP-OES Analyse ermöglicht die gleichzeitige Bestimmung aller Metalle und einiger Nicht-Metalle auf den Proben bis zu einem Gesamtgehalt von 1g/L im Konzentrationsbereich mg/L bis µg/L.
 
Beim ICP-MS Verfahren wird jeweils die Masse der im Plasma erzeugten Ionen analysiert. Diese werden einem Quadrupol-Massenspektrometer zugeführt, nach ihrem Masse-/Ladungsverhältnis getrennt und verstärkt. Anschließend gelangen sie zu einem Detektor, wo sie in einen elektrischen Impuls umgewandelt und sequenziell registriert werden. Die Signalstärke verhält sich proportional zur entsprechenden Element-Menge auf der Probe. Die ICP-MS Methode bietet eine extrem hohe Empfindlichkeit weit unterhalb internationaler Grenzwerte und eignet sich besonders zur Bestimmung von Schwermetallen. Auch die ICP-MS Analyse ermöglicht die gleichzeitige Bestimmung aller Metalle und einiger Nicht-Metalle bis zu einem Gesamtgehalt von 1g/L, allerdings im Konzentrationsbereich µg/L bis ng/L. 
Neben der Optischen Emissionsspektrometerie mittels induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-OES Analyse) und die ICP-MS Analyse bietet SemiSol weitere Verfahren zur Oberflächenanalyse wie bspw. TXRF. Zusammen mit Ihnen wählen wir je nach Fragestellung die geeignete Methode aus und liefern innerhalb kürzester Zeit ausführliche Ergebnisse. Auch für komplexe Probleme finden wir eine Lösung, die aussagekräftige Ergebnisse liefert und stets im definierten Zeit- und Kostenrahmen bleibt. Wir freuen uns darauf, Ihr Unternehmen mit unseren zielführenden Analytik-Lösungen voranzubringen. Kontaktieren Sie uns einfach für ein Beratungsgespräch!
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